針對(duì)荷蘭半導(dǎo)體設(shè)備供貨商艾司摩爾(ASML Holdings NV)售出15臺(tái)極紫外光(EUV)微影系統(tǒng)給一家神秘美國(guó)買(mǎi)家的新聞，業(yè)界分析師們分別提出了不同的反應(yīng)與看法。雖然很少有人懷疑英特爾(Intel)就是買(mǎi)家，但這項(xiàng)交易的條款以及EUV是否為半導(dǎo)體制造準(zhǔn)備就緒等細(xì)節(jié)仍不明朗。

 

EUV微影技術(shù)雖然已經(jīng)用了幾十年了，由于存在光源不足的缺陷，至今仍無(wú)法提供制造先進(jìn)芯片所需的良率與產(chǎn)能。ASML長(zhǎng)久以來(lái)已經(jīng)在這方面發(fā)布了幾次重要的系統(tǒng)升級(jí)，但最近的進(jìn)展仍遠(yuǎn)低于生產(chǎn)目標(biāo)。

 

就在去年秋天的英特爾開(kāi)發(fā)者論壇(IDF)上，英特爾院士Mark Bohr表示，EUV“尚未準(zhǔn)備就緒，其產(chǎn)能與可靠性都還未能到位。”

 

Mark Bohr當(dāng)時(shí)表示，英特爾正著眼于一種無(wú)需使用EUV的方法，能夠在更具成本效益的前提下制造7nm芯片。他稍早前即針對(duì)10nm工藝發(fā)表相同的看法，不過(guò)，該公司尚未對(duì)于7nm與10nm工藝節(jié)點(diǎn)透露更多細(xì)節(jié)。

 

有的分析師認(rèn)為英特爾就是ASML新聞發(fā)布中所提到的美國(guó)現(xiàn)有客戶(hù)。不過(guò)，根據(jù)另一位分析師推測(cè)，這會(huì)是一項(xiàng)長(zhǎng)期的交易，因?yàn)樵?5臺(tái)EUV系統(tǒng)中有10臺(tái)要到2017年以后才能出貨。根據(jù)分析師指出，這項(xiàng)交易已經(jīng)讓ASML的股價(jià)上漲15%了。

 

其他分析師也采取更樂(lè)觀的看法。“對(duì)于英特爾來(lái)說(shuō)，要在10nm節(jié)點(diǎn)利用EUV為時(shí)已晚，目前的時(shí)機(jī)似乎更適合用于7nm，”Real World Technologies首席分析師Daid Kanter表示。

 

“這是對(duì)于ASML投下信心的一票，從這項(xiàng)訂單的規(guī)?？煽闯?，EUV即將進(jìn)入大量生產(chǎn)；以往的交易通常只買(mǎi)一兩臺(tái)機(jī)器，主要用于實(shí)驗(yàn)?zāi)康模?rdquo;Kanter說(shuō)，“而英特爾購(gòu)買(mǎi)EUV可望促進(jìn)其他競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手如三星(Samsung)、Globalfoundries與臺(tái)積電(TSMC)在不久的將來(lái)盡快進(jìn)行系統(tǒng)升級(jí)，”他補(bǔ)充說(shuō)。

 

然而，Kanter提醒，實(shí)際的銷(xiāo)售交易仍然取決于EUV是否能符合性能目標(biāo)。此外，他并補(bǔ)充說(shuō)，EUV系統(tǒng)能否達(dá)到內(nèi)存制造商更嚴(yán)峻的成本目標(biāo)，一切也還是個(gè)未知數(shù)。

 

今年稍早，臺(tái)積電宣布采用配備80W光源的ASML NXE:3300B EUV微影系統(tǒng)，在24小時(shí)內(nèi)曝光1,000片晶圓。該公司預(yù)計(jì)在7nm工藝節(jié)點(diǎn)時(shí)使用EUV，但在10nm生產(chǎn)開(kāi)始后也將嘗試導(dǎo)入于其10nm工藝中。這項(xiàng)新的EUV交易顯示英特爾可能也打算采取類(lèi)似的計(jì)劃。

 

無(wú)疑地，EUV是業(yè)界主要的候選技術(shù)，它能夠避免當(dāng)今193nm浸潤(rùn)式微影系統(tǒng)利用多種圖形化步驟帶來(lái)的高成本。然而，除了與光源有關(guān)的問(wèn)題以外，EUV仍然面臨光阻劑、光罩偵測(cè)、密度與防護(hù)膜等障礙。